金属银粉的生产制取工艺过程中，需要在沉淀罐及过滤机内用去离子水反复清洗，才能得到高纯银粉。如果清洗不彻底，会遗留杂质和引起银粉在干燥时结团。清洗用的去离子水一般要求电阻率15MΩ·cm以上。

某公司需要的清洗工艺去离子水用水量10m³/h，电阻率≥15MΩ·cm，水源为市政自来水，采用活性碳过滤+软化处理+反渗透处理系统+混床离子交换系统制取去离子水。

混床离子交换系统配置三台直径300mm，高度2000mm的混床专用玻璃钢罐，罐内按1:2比例填装强酸性阳树脂和强碱性阴树脂，选用三台润新15704(F87)混床用控制阀，形成三套混床离子交换系统并联运行供水。混床设计运行平均流速50m/h（一般40~60m/h），反洗分层流速10m/h，再生流速5m/h，通过电阻率仪在线监测出水水质，当出水电阻率超出设定值时，润新混床用控制阀自动开启再生。